浅析集成电路布图设计的登记和法律保护

    所谓的知识产权是智力成果的创造者对其创造成果所享有的专有权。一般分为两个领域：版权及与版权相关的权

利和工业产权。知识产权保护的对象除了常见的商标、专利等，还包括集成电路布图设计。知识产权日益受到重

视，它是国际政治、经济、科技、文化交往中一个普遍受关注的问题。特别是中国加入WTO后，TRIPS（关贸总

协定知识产权协议）的达成使国际知识产权保护提高到新水平。知识产权的特点有时间性、地域性和独占性。
　　布图设计是知识产权的组成部分，其保护是知识产权保护的组成部分。集成电路是指通过一系列特定的加

工工艺，将晶体管、二极管等有源器件和电阻、电容等无源器件，按照一定的电路互连，“集成”在一块半导体

单晶片上，并封装在一个外壳内，执行特定电路或系统功能。集成电路的原料是硅石片，经过人的创新设计和一

系列创新的工艺技术加工制造，将人类的智慧与创造固化在硅芯片上，便构成知识创新的载体，成为集成电路芯

片。随着集成电路技术的发展，整机、电路与元器件之图的明确界限被突破，器件问题、电路问题和整机系统问

题已经结合在一起，体现在一小块硅片上，这就形成了固体物理、器件工艺与电子学三者交叉的新技术学科——

微电子学。集成电路产业和微电子科技构成信息社会经济发展的基石。集成电路的优点是集信息处理,存储,传输

于一个小小的芯片中、低成本,高效率, 大批量生产，可靠性高, 耗能少。
　　“布图设计”是指集成电路中多个元件，其中至少有一个是有源元件，和其部分或全部集成电路互连的三维

配置，或者是指为集成电路的制造而准备的这样的三维配置。 布图设计具有专有权和著作权，有工业实用性，

并且对技术水平有一定要求，而专利法保护的客体是具有新颖性、创造性和实用性的新的技术方案。美国率先制

定国内法对集成电路布图设计予以保护。其他发达国家如日本、欧洲等纷纷于1985年和1986等争相效仿。迄今为

止，共有 50多个国家和地区制定了保护集成电路布图设计的国内法。 其出台的背景的直接原因是美国芯片工业

界为了在国际竞争中更好地保护其利益的需要。

　　世界上有些国家采取登记制，如：我国、台湾地区、韩国、美国、加拿大等，而其他国家则采取非登记制度，如

：英国、香港、澳大利亚、瑞士等。每一缔约方可自由通过布图设计（拓朴图）的专门法律或者通过其关于版权

、专利、实用新型、工业品外观设计、不正当竞争的法律，或者通过任何其它法律或者任何上述法律的结合来履

行其按照本条约应负的义务。
    未经权利持有人许可不得复制受保护的布图设计的全部或其任何部分，无论是否将其结合到集成电路中；为

商业目的进口、销售或者以其它方式供销受保护的布图设计或者其中含有受保护的布图设计的集成电路。对专有

权的也有一定限制，比如：第三者为了私人的目的或者单纯为了评价、分析、研究或者教学的目的，未经权利持

有人许可而进行所述行为的，任何缔约方不应认为是非法行为。此外，知识产权条约还约定了国民待遇原则、强

制许可（也就是非自愿许可）和善意第三人的免责等。
　　我国对集成电路布图设计专有权的保护问题一直持积极态度。自1989年以来，国家知识产权局和信息产业部

对国内外集成电路布图设计保护情况和我国立法保护的可行性已作了大量调研。去年10月1日颁布《集成电路布

图设计保护条例》，其该条例共有六章36条，规范了条例保护的对象，权利产生的条件，权利的内容，权利的限

制和权利的保护等。条例明确规定布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不

受本条例保护。 当布图设计自其在世界上任何地方首次商业利用之日起两年内，未向国务院知识产权行政部门

提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。 受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计

是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常

规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
　　布图设计登记申请时应该提交申请标、布图设计的图样等材料，经过初步审查，国家知识产权局将对合格的

申请发出受理通知。对于不符合登记条件的，予以驳回。布图设计获准登记后，国务院知识产权行政部门发现该

登记不符合本条例规定的，应当予以撤销，通知布图设计权利人，并予以公告。对撤销决定不服的起诉，以自收

到通知之日起3个月内向人民法院起诉。
　　布图设计权利人享有专有权，包括对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制和将

受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。布图设计专有权的保

护期为十年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但

是，无论是否登、记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起十五年后，不再受保护。
    未经布图设计权利人许可，使用其布图设计，即侵犯其布图设计专有权，引起纠纷的，由当事人协商解决；

不愿协商或者协商不成的，布图设计权利人或利害关系人可以向人民法院起诉，也可以请求国务院知识产权行政

部门处理。侵犯布图设计专有权的赔偿数额，为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人

为制止侵权行为所支付的合理开支。
　　自去年10月1日条例实施至今，国家知识产权局收到了160多份申请，其中大部分申请来自IBM、西门子等国

外的半导体公司。国内的申请又大部分集中在上海和北京，国内其他城市的申请寥寥无几。在我国半导体行业在

发展初期，大量借鉴国外同行的布图设计，这将面临侵权的诉讼，而且我国自己设计的集成电路，也缺乏保护意

识，不注册就意味着面对侵权行为，将无法获得法律的保护。条例很多条款对我国企业相当有利，其中规定只要

我国企业对借鉴的外国布图设计稍作修改，只要和原布图设计不同，就可以在国家知识产权局注册，受法律的保

护。即使今后该外国布图设计的持有人在华提起诉讼，也将无法胜诉。